无锡表面微观形貌机构

干涉显微测量方法:干涉显微测量方法利用光波干涉原理测量表面轮廓。与探针式测量方法不同的是,它不是单个聚焦光斑式的扫描测量，而是多采样点同时测量。干涉显微测量方法能同时测量--个面上的表面形貌，横向分辨率取决于显微镜数值孔径，一般在pum或亚pum量级;横向测量范围取决于显微镜视场，大小在mm量级:纵向分辨率取决于干涉测量方法，一般可达nm或0.1nm量级:纵向测量范围在波长量级。因此干涉显微测量方法比较适宜于测量结构单元尺寸在pum量级，表面尺寸在mm或亚m量级的微结构。

由于接触式测量仪应用在复杂的生产现场，*受冲压机、空压机、或其它重型设备的振动干扰，而对于振幅为微纳米级、频率为若干赫兹的振动而言，其干扰也影响仪器正常精度的发挥，如果其干扰同测量仪自身的振动频率相似，较难察觉的微幅振动，将对测量精度的稳定性产生非常大的干扰，所以振动的消除常常成为棘手问题，因此测量仪制造商对于测量所处环境的振动频率与振幅均有一定的要求。

光学探针式测量方法:光学探针式测量方法原理上类似于机械探针式测量方法，只不过探针是聚集光束。根据采用的光学原理不同，光学探针可分为几何光学原理型和物理光学原理型两种。几何光学探针利用像面共轭特性来检测表面形貌，有共焦显微镜和离焦检测两种方法:物理光学探针利用干涉原理通过测量程差来检测表面形貌，有外差干涉和微分干涉两种方法。光学探针是非接触测量，，但需要一套高精度的调焦系统。

扫描电子显微镜:扫描电子显微镜(SEM, Scanning electronic microscope)利用聚焦得非常细的电子束作为电子探针。当探针扫描被测表面时，二次电子从被测表面激发出来，二次电子的强度与被测表面形貌有关，因此利用探测器测出二次电子的强度，便可处理出被测表面的几何形貌。SEM既可以用于pum量级结构的测量，也可用于nm量级结构的测量。它比较适合于定性测量，不能精确测定微小结构在纵向的尺寸。此外，它的电子束还会使某些对电子束敏感的样品产生辐射损伤。